有害气体的净化装置

摘要：

本发明涉及一种有害气体的净化装置。其提供一种净化装置，该净化装置可在不采用大型或复杂的结构的情况下，针对从半导体制造步骤排出的有害气体，抑制处理对象有害气体的分解率的降低，以及分解室壁面的粉状物的堆积，长时间地，安全稳定地对该有害气体进行净化处理。一种有害气体的净化装置，其通过燃烧燃料而获得的燃烧排气或火焰，对从半导体制造步骤排出的有害气体进行热分解，对其进行净化处理，其按照将热分解室的侧面作为具有通气性和隔热性的壁，通过该壁，将含氧的气体导入热分解室的方式构成。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200410058207.0

申请日期：2004-08-17

公开/公告号：CN1584400

公开/公告日：2005-02-23

主分类号：F23G5/027

申请/专利权人:日本派欧尼株式会社

发明/设计人:岛田孝;小礒保彦;村永直树;笠谷尚史;池田友久

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:北京三幸商标专利事务所

代理人:刘激扬

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种有害气体的净化装置，其通过燃烧燃料而获得的燃烧排气或火焰，对从半导体制造步骤排出的有害气体进行热分解，对其进行净化处理，其特征在于其至少包括有害气体的热分解室；喷嘴，该喷嘴将燃烧排气或火焰导入该热分解室；将有害气体导入该热分解室的喷嘴；通过通气性的隔热壁，将含氧的气体从侧面，导入该热分解室的机构；排出口，该排出口将热分解后的气体排向外部。