LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法

摘要：

一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)含有使含3，4-二甲苯酚的酚类和醛类进行缩合反应而得到的碱溶性酚醛清漆树脂的碱溶性树脂成分，(B)萘醌二叠氮基酯化物，(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物，(D)有机溶剂。本发明还提供了使用该组合物的抗蚀图的形成方法。通过本发明，即使在低NA条件下也可获得良好的分辨力。另外，由于NA条件下的线性也良好，所以适合用于系统LCD的制造。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200380104752.2

申请日期：2003-12-05

公开/公告号：CN1720484

公开/公告日：2006-01-11

主分类号：G03F7/023(2006.01)I

申请/专利权人:东京应化工业株式会社

发明/设计人:片野彰;中山一彦;新仓聪;土井宏介

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:朱 丹

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有(A)含有使含3，4-二甲苯酚的酚类和醛类进行缩合反应而得到的碱溶性酚醛清漆树脂的碱溶性树脂成分，(B)萘醌二叠氮基酯化物，(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物，(D)有机溶剂。