高温反应烧结炉

摘要：

本实用新型涉及一种高温反应烧结炉，尤其涉及一种半导体、冶金及其它行业的热处理真空工艺处理中应用的高温反应烧结炉。其结构由炉体、反应室、送料装置与旋转装置和废气处理装置组成；本实用新型所述的高温反应烧结炉，在原有炉体结构中增加了反应室，反应室位于炉体内部，与炉腔分开；可以节约工艺气体，不会在炉壁上产生结晶，影响高温烧结炉的性能。在送料装置上增加了旋转装置，使工件在处理过程中持续旋转，让工件受热均匀，与工艺气体接触均匀，提高产品质量。又增加了废气处理装置，对产生的废气进行处理，减少对环境制成的污染。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN200320103509.6

申请日期：2003-11-21

公开/公告号：CN2674295

公开/公告日：2005-01-26

主分类号：F23B7/00

申请/专利权人:北京七星华创电子股份有限公司

发明/设计人:谢晶

主申请人地址:100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号

专利代理机构:北京凯特来知识产权代理有限公司

代理人:郑立明

国别省市代码:北京(11)

权利要求：

1、一种高温反应烧结炉，其特征在于由炉体、反应室与送料装置组成；反应室位于炉体内部，送料装置位于反应室在炉体上的开口处外端。