1,2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂、制备该光敏剂的方法和光致抗蚀剂组合物

摘要：

本发明提供了一种1，2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂，其可用作光致抗蚀剂中的光敏剂，所述光致抗蚀剂用于生产半导体集成电路、液晶显示器、EL显示器等，本发明还提供了制备该光敏剂的方法和含有该光敏剂的光致抗蚀剂组合物。1，2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂是在中和剂存在下，通过多元酚与1，2-萘醌-2-二叠氮磺酰氯反应制得，其中，多元酚通过间苯二酚和至少一种C3-C10醛缩合反应制得，多元酚含有上式(I)化合物作为主要组分，并含有10％或更低量的另一些组分，这些组分用GPC测得其保留时间低于式(I)化合物的保留时间，式(I)中R₁、R₂、R₃和R₄各自表示C2-C9烷基。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN03110712.5

申请日期：2003-03-14

公开/公告号：CN1445607

公开/公告日：2003-10-01

主分类号：G03F7/022

申请/专利权人:东洋合成工业株式会社

发明/设计人:饭田弘忠;诹访美晴;萩原勇一;多田胜美

主申请人地址:日本千叶县

专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:陈季壮

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种1，2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂，该光敏剂是在中和剂存在下，通过多元酚与1，2-萘醌-2-二叠氮磺酰氯反应制得，其中，多元酚通过间苯二酚和至少一种C3-C10醛缩合反应制得，多元酚含有下式(I)化合物作为主要组分，并含有10％或更低量的另一些组分，这些组分用GPC测得其保留时间低于式(I)化合物的保留时间，式(I)中R1、R2、R3和R4各自表示C2-C9烷基。