一体式二维转动微弹性调整架

摘要：

一种一体式两维转动微弹性调整架，包括基座与弹性层之间有作为固定支点的细颈部连为一体。在弹性层相对于基座的内表面上有两组结构相同相互垂直置放的微弹性小槽，有两个调整螺钉从基座上一条对角线上穿过基座顶在弹性层上。通过分别调节两个调整螺钉，可以使弹性层绕细颈部相对于基座作左右或上下的转动。因为基座与调节部分的弹性层为一体化结构，减小了静态飘移，增加了调整架的稳定性。加工简单、装配方便、成本低，适宜批量生产。尤其适用于精密光学和精密机械的调整机构中。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN02217490.7

申请日期：2002-05-17

公开/公告号：CN2546904

公开/公告日：2003-04-23

主分类号：G02B27/62

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

发明/设计人:庞向阳;王聪瑜;汤更秀;刘志刚;王国兴

主申请人地址:201800上海市嘉定区嘉定镇清河路390号

专利代理机构:上海开祺专利代理有限公司

代理人:李兰英

国别省市代码:上海(31)

权利要求：

权利要求书1.一种一体式二维转动微弹性调整架，包括：含有基座(105)的调整架主体(1)，以及穿过基座(105)的第一调整螺钉(2)和第二调整螺钉(3)；其特征在于在基座(105)的一角上有细颈部(103)，在细颈部(103)的上面有与基座(105)和细颈部(103)连为一体的弹性层(101)，在弹性层(101)相对于基座(105)的内表面上有相互垂直结构相同的第一组微弹性小槽(102)和第二组微弹性小槽(104)，每条微弹性小槽(102、104)的槽底有槽底圆孔(107)，所说的第一调整螺钉(2)和第二调整螺钉(3)穿过基座(105)顶在弹性层(101)上，是对称分布在基座(105)的对角线上，所说的细颈部(103)与第一、第二组微弹性小槽(102、104)的交叉点位于基座(105)的另一对角线上，在弹性层(101)的外表面上开有螺纹孔(106)。