一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法

摘要：

本发明公开了一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法，采用平行紫外光垂直照射振幅掩膜版，利用振幅掩膜版对入射平行紫外光进行振幅调制，通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光，该方法包括以下步骤：1)在紫外光照射振幅掩膜版之前，先使用紫外光扩束装置对紫外光进行扩束；2)扩束后的紫外光经过振幅掩膜版进行振幅调制后，使用紫外光聚焦装置压缩光斑，然后通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光。本发明的制作抽样光纤光栅的方法，能够制作任意函数抽样的光纤光栅，过程相对简单，很容易实现任意函数的抽样。且工艺简单易行，曝光精度要求低，易于形成批量生产，对这一器件的产业化具有重要意义。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN02151734.7

申请日期：2002-12-31

公开/公告号：CN1512204

公开/公告日：2004-07-14

主分类号：G02B6/124

申请/专利权人:北京邮电大学

发明/设计人:余重秀;吴强;王葵如;王旭

主申请人地址:100876北京市海淀区西土城路10号

专利代理机构:北京德琦知识产权代理有限公司

代理人:王丽琴

国别省市代码:北京;11

权利要求：

1、一种制作任意函数抽样光纤光栅的方法，采用平行紫外光垂直照射振幅掩膜版，利用振幅掩膜版对入射平行紫外光进行振幅调制，通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光，其特征在于，该方法包括以下步骤：1)在紫外光照射振幅掩膜版之前，先使用紫外光扩束装置对紫外光进行扩束；2)扩束后的紫外光经过振幅掩膜版进行振幅调制后，使用紫外光聚焦装置压缩光斑，然后通过相位掩膜版对光敏光纤进行扫描曝光。