光刻胶组合物

摘要：

本发明涉及一种光刻胶组合物，具有优良的基质和光刻胶界面的紧密粘着性，解决了湿蚀刻中的问题，具有优良的敏感度和分辨率，并且具有优良的光刻胶性能，它含有公式(I)所表示的化合物；其中，R¹和R²分别表示一个氢原子或者一个烷基，R³则表示一个氢原子、烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基或者羰芳烷基；n表示1到40之间的一个整数，m表示1到5之间的一个整数，l表示1到5之间的一个整数。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN02142219.2

申请日期：2002-08-26

公开/公告号：CN1407404

公开/公告日：2003-04-02

主分类号：G03F7/00

申请/专利权人:住友化学工业株式会社%东友法肯株式会社

发明/设计人:金相奏;康升镇;成始震;末次益实

主申请人地址:日本大阪市

专利代理机构:北京集佳专利商标事务所

代理人:王学强

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

权利要求书1.一种光刻胶组合物，含有下面通用公式(I)所表示的化合物：其中，R1和R2分别表示一个氢原子或者一个烷基；假设烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基和羰芳烷基能够选择性地替换一个羧基、氧化羰基、羟基、烷氧基或者烷基，R3则表示一个氢原子、烷基、芳基、芳烷基、卤代烯烃、羰烷基、羰芳基或者羰芳烷基；n表示1到40之间的一个整数，m表示1到5之间的一个整数，l表示1到5之间的一个整数。