光合细菌制剂的制备方法
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光合细菌制剂的制备方法

引用
本发明提供一种光合细菌制剂的制备方法,该方法为:光合细菌与菌种培养液按容积比为(0.8~1)∶(1~1.2)的比例混合得混合液,混合液在温度为20~38℃、光照强度为2000~6000LX、PH为6~7的厌氧条件下培养100~140小时,然后将厌氧条件下培养出的菌液在温度为20~38℃的条件下按以下方式培养24~72小时,所述方式为:每日凌晨4时至当日下午5时在自然光照的厌氧条件下培养、每日下午5时至次日凌晨4时在敞开体系中培养,当菌液的活菌浓度达到5×10<sup>9</sup>个/ml以上时,制成光合细菌制剂。与现有制备方法相比,本发明所述制备方法具有设备投资小、生产成本低、操作简单、使用起来相当方便的优点。

发明专利

CN02110316.X

2002-04-30

CN1384188

2002-12-11

C12N1/20

许继光

许继光

233010安徽省蚌埠市西区张公山新村318栋5单元6号

蚌埠鼎力专利代理有限责任公司

王琪

安徽;34

权利要求书1、光合细菌制剂的制备方法,它依次包括以下工艺步骤:(1)光合细菌与菌种培养液按容积比为(0.8~1)∶(1~1.2)的比例混合得混合液;(2)混合液在温度为20~38℃、光照强度为2000~6000LX、PH为6~7的厌氧条件下培养100~140小时;(3)将(2)中培养出的菌液在温度为20~38℃的条件下按以下方式培养24~72小时,所述方式为:每日凌晨4时至当日下午5时在自然光照的厌氧条件下培养、每日下午5时至次日凌晨4时在敞开体系中培养,当菌液的活菌浓度达到5×109个/ml以上时,制成光合细菌制剂。
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2002-12-11公开
2006-01-18发明专利申请公布后的视为撤回
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