光合细菌制剂的制备方法
本发明提供一种光合细菌制剂的制备方法,该方法为:光合细菌与菌种培养液按容积比为(0.8~1)∶(1~1.2)的比例混合得混合液,混合液在温度为20~38℃、光照强度为2000~6000LX、PH为6~7的厌氧条件下培养100~140小时,然后将厌氧条件下培养出的菌液在温度为20~38℃的条件下按以下方式培养24~72小时,所述方式为:每日凌晨4时至当日下午5时在自然光照的厌氧条件下培养、每日下午5时至次日凌晨4时在敞开体系中培养,当菌液的活菌浓度达到5×10<sup>9</sup>个/ml以上时,制成光合细菌制剂。与现有制备方法相比,本发明所述制备方法具有设备投资小、生产成本低、操作简单、使用起来相当方便的优点。
发明专利
CN02110316.X
2002-04-30
CN1384188
2002-12-11
C12N1/20
许继光
许继光
233010安徽省蚌埠市西区张公山新村318栋5单元6号
蚌埠鼎力专利代理有限责任公司
王琪
安徽;34
权利要求书1、光合细菌制剂的制备方法,它依次包括以下工艺步骤:(1)光合细菌与菌种培养液按容积比为(0.8~1)∶(1~1.2)的比例混合得混合液;(2)混合液在温度为20~38℃、光照强度为2000~6000LX、PH为6~7的厌氧条件下培养100~140小时;(3)将(2)中培养出的菌液在温度为20~38℃的条件下按以下方式培养24~72小时,所述方式为:每日凌晨4时至当日下午5时在自然光照的厌氧条件下培养、每日下午5时至次日凌晨4时在敞开体系中培养,当菌液的活菌浓度达到5×109个/ml以上时,制成光合细菌制剂。