体外细胞培养装置中的非平行平板流动腔

摘要：

本实用新型涉及一种体外细胞培养装置中的非平行平板流动腔。该非平行平板流动腔包括上下两块平板，该两块平板固定在体外细胞培养装置内，平板之间具有间距，两平板之间的端口为腔体入口和腔体出口，从两块平板腔体入口到腔体出口方向为倾斜的腔体。由于该体外细胞培养装置中的非平行平板流动腔由上下两块平板之间具有间距，并且从腔体入口到腔体出口方向间距为倾斜的腔体，所培养的细胞放在下平板上，剪应力从流动腔体入口到腔体出口是变化的，从而只要进行一次实验，就可以得到体外培养细胞受到一区间连续剪应力作用下的结果，大大地节约时间，提高了工作效率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN01231652.0

申请日期：2001-07-18

公开/公告号：CN2486559

公开/公告日：2002-04-17

主分类号：C12M3/00

申请/专利权人:中国科学院力学研究所

发明/设计人:钱民全;彭荣蕤;赵笃凤;钱大兴;萧蓝

主申请人地址:100080北京市海淀区中关村路15号

专利代理机构:上海智信专利代理有限公司

代理人:高存秀

国别省市代码:北京(11)

权利要求：

权利要求书1.一种体外细胞培养装置中的非平行平板流动腔，包括上下两块平板，该两块平板固定在体外细胞培养装置内，平板之间具有间距，其特征在于：两平板之间的端口为腔体入口和腔体出口，从一两端口到另一端口方向为倾斜的腔体。