伸长的线状缺陷的定位

摘要：

一种查找照相材料上的线状缺陷的方法，所述材料具有有效的成像宽度和与所述材料纵向一致的缺陷，所述方法包括下列步骤：将所述材料的一定区域曝光，以形成在所述缺陷的有效成像宽度上基本均匀的潜像；将潜像显影以产生密度信号；利用测光装置对密度信号取样；以及分析取样的密度数据，确定与所述材料纵向一致的显著离差的存在，以查找所述缺陷。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01125205.7

申请日期：2001-08-09

公开/公告号：CN1337594

公开/公告日：2002-02-27

主分类号：G03B17/24

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:N·D·卡希尔;J·P·斯彭斯

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:吴增勇%陈景峻

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1.一种具有有效成像宽度的照相材料，所述材料包括横跨所述材料的所述有效成像宽度且基本均匀的潜像，以用于查找与所述材料的纵向一致的线状缺陷。