一种真空排污系统

摘要：

本发明涉及一种真空排污系统的布置方式，所述真空排污系统包括污水网络(2)和作为该真空排污系统的真空源的液体驱动喷射装置(1)，污水网络(2)又包括污水源(24)和用于盛装来自所述污水源的污水的排污管路(28)。为了提高效率及保证喷射装置的功能，喷射装置(1)形成主循环，该主循环独立于由污水收集流程所形成的副循环。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01124996.X

申请日期：2001-08-07

公开/公告号：CN1337506

公开/公告日：2002-02-27

主分类号：E03D5/01

申请/专利权人:埃瓦克国际有限公司

发明/设计人:T·纳斯基

主申请人地址:芬兰赫尔辛基

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:林长安

国别省市代码:芬兰;FI

权利要求：

权利要求书1.一种真空排污系统的布置方式，所述系统包括污水网络(2)和作为所述系统真空源的液体驱动喷射装置(1；101；201；301)，所述污水网络(2)包括污水源(24)和用来盛装来自所述污水源的污水的排污管路(28；128；228；328)，所述布置方式的特征在于，所述喷射装置(1；101；201；301)形成主回路，污水收集流程形成副回路，所述主回路和所述副回路彼此分开。