含照相用封闭式化合物的成像元件

摘要：

本发明涉及成像元件，其成像层中结合有结构Ⅰ的化合物，取代基按说明书中定义，其中B是六员杂芳环。这样的化合物有良好的反应活性，并能封闭照相上有用的化合物，如显影剂，直至在预选的条件下热活化才释放出。按照本发明的化合物在彩色光热敏成像材料中特别有用。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01119088.4

申请日期：2001-05-25

公开/公告号：CN1326114

公开/公告日：2001-12-12

主分类号：G03C1/40

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:W·K·斯卢萨雷克;杨希强;D·H·莱维

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:王景朝%杨丽琴

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1.　一种成像元件，其成像层中结合有下式结构的化合物：I式中PUG是照相适用基团；LINK1和LINK2是连接基；TIME是定时基；l是0或1；m是0、1或2；n是0或1；1＋n≥0；t是0、1或2；T独立地选自取代或未取代的(参考下面的T基团)烷基、环烷基、芳基或杂环基，以至少一个有机C1～C10基封端的无机单价吸电子基，或无机二价吸电子基；或者当T是烷基、芳基或杂环基时，T与R11或R12结合形成环；t是0、1或2，当t不是2时，所缺数目由氢代替；a是1或2；A是碳(于是a为1)或硫(于是a为1或2)；b是1或2；R11是氢，或者取代或未取代的烷基、环烷基、芳基或杂环基，或者R11可与T结合形成环；以及B是结构II1