含照相用封闭式化合物的成像元件

摘要：

本发明涉及成像元件，其成像层中结合有结构Ⅰ的化合物，其中取代基按说明书中定义。这样的化合物有良好的反应活性，并能封闭照相上有用的化合物，如显影剂，直至在预选的条件下热活化才释放出。按照本发明的化合物在彩色光热敏成像材料中特别有用。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01119086.8

申请日期：2001-05-25

公开/公告号：CN1326113

公开/公告日：2001-12-12

主分类号：G03C1/40

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:Z·R·奥夫查茨克;D·T·索斯比;杨希强

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:王景朝%杨九昌

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1.　一种成像元件，其成像层中结合有下式I结构的化合物：I式中PUG是照相适用基团；LINK1和LINK2是连接基；TIME是定时基；T独立地选自取代或未取代的烷基或芳基，t是0、1、或2，如果t是2，T基团可以结合成环，或者如果t至少是1，则T可以与NIT一起成环，而当t小于2时，所缺数由氢原子数代替；NIT是双取代氮基团，其中氮原子位于相邻基团的α位，无论是LINK1、LINK2、TIME或PUG,NIT中氮上的取代基可视需要形成环；l是0或1；m是0、1或2；n是0或1。