含照相用封闭式化合物的成像元件

摘要：

本发明涉及含有与右式(Ⅰ)化合物相结合的成像层的成像元件，其中取代基如说明书中定义。该化合物有良好的反应活性，并能封闭照相上有用的化合物，如显影剂，直至在预选的条件下热活化才释放出。按照本发明的化合物在彩色光热敏成像材料中特别有用。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01119085.X

申请日期：2001-05-25

公开/公告号：CN1326112

公开/公告日：2001-12-12

主分类号：G03C1/40

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:W·K·斯卢萨雷克;杨希强;D·H·莱维

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:王景朝%罗才希

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1.　一种成像元件，包括结合有下列结构的化合物的成像层：IPUG是照相适用基团；LINK1和LINK2是连接基；TIME是定时基；l是0或1；m是0、1或2；n是0或1；1＋n≥0；t是1或2；当t是2时，两个T基团可以结合成环；Y是C、N、O或S；X是取代或未取代的芳基、吸电子基团、或取代或未取代的杂芳基、该杂芳基视需要还可与T或R12基形成环；W各自分别选自氢、卤素、或取代或未取代的烷基、环烷基、芳基或杂环基；当Y是C时，w是0-3；当Y是N时，w是0-2；当Y是O或S时，w是0-1；其中当w是2时，该两个W基可以结合形成环，当w是3时，其中两个W基可以结合形成环，或该三个W基可以结合形成芳基或双环取代基；而且W基与T或R12结合可以形成环；R12是氢、或取代或未取代的烷基、环烷基、芳基或杂环基，或者R12可以与W、Y或T结合形成环系；T是单价吸电子基、二价吸电子基、以1-7个吸电子基取代的芳基，或者取代或未取代的杂芳基，或者当T是二价吸电子基、芳基或杂芳基时，可以与Y、W或R12结合形成环系；当X是单价时，a是1，而当X是二价时，则是1或2；而1