含次甲基化合物的卤化银照相乳剂和采用该乳剂的照相材料

摘要：

本发明公开了一种卤化银照相乳剂，其包含一种次甲基化合物，在该化合物分子中至少具有一个原子团，其中，至少两个选自由下式(Ⅰ)或(Ⅱ)表示的基团相互邻近或通过一个原子相互邻近：X－H (I)其中，X表示比碳原子更为电负性的原子，Y (Ⅱ)其中，Y表示比碳原子更为电负性的原子，并具有一个或多个单独的电子对；本发明还公开了一种包含所述卤化银照相乳剂的卤化银照相材料。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01115882.4

申请日期：2001-05-11

公开/公告号：CN1324005

公开/公告日：2001-11-28

主分类号：G03C1/12

申请/专利权人:富士胶片株式会社

发明/设计人:小林克;日置孝德

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:北京市专利事务所

代理人:鲁兵

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

权利要求书1．一种卤化银照相乳剂，其包含一种次甲基化合物，在该化合物分子中至少具有一个原子团，其中，至少两个选自由下式(Ⅰ)或(Ⅱ)表示的基团相互邻近或通过一个原子相互邻近：X-H (Ⅰ)其中，X表示比碳原子更为电负性的原子，Y (Ⅱ)其中，Y表示比碳原子更为电负性的原子，并具有一个或多个单独的电子对。