将光栅从静电放电中隔开的方法

摘要：

本发明公开了一种光栅即光掩模，其围绕腐蚀进入排列在衬底上的光阻挡材料中的集成电路图形的引导带即不连续性，提供了降低ESD的装置。引导带的宽度最好约为1－50mm。引导带借助于中断电荷行进路径和将关键图形化区域隔离于电荷运动而降低了ESD。引导带的腐蚀可以容易地组合到腐蚀集成电路图形过程中的制造方案中。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01111225.5

申请日期：2001-03-09

公开/公告号：CN1319783

公开/公告日：2001-10-31

主分类号：G03F1/00

申请/专利权人:国际商业机器公司

发明/设计人:S·D·弗兰德斯;D·S·奥格雷迪;J·G·斯莫林斯基

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:王岳%王忠忠

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1．一种光刻掩模，它包含：透光的衬底；满铺在所述衬底上的光阻挡材料层，所述光阻挡材料被图形化和腐蚀，以提供集成电路的图象；以及围绕图象的所述光阻挡材料层中的不连续性。