一种三维微结构的制作方法及其曝光装置

摘要：

本发明公开了一种三维微结构的制作方法及其使用的曝光装置。该方法利用计算机产生的掩模图形对感光材料进行重复曝光后，移动曝光台，对感光材料的不同区域在进行曝光；最后显影，形成任意连续三维微结构。该方法所使用的曝光装置包括计算机、液晶光阀、投影镜头和曝光台。本发明能够制作总体面积大的微结构元器件，避免了传统曝光技术中昂贵费时的制版工艺，降低了微结构制作费用，且进一步提高了制作效率和制作精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01108436.7

申请日期：2001-05-16

公开/公告号：CN1385759

公开/公告日：2002-12-18

主分类号：G03F7/22

申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

发明/设计人:曾红军;陈波;杜春雷;郭履容

主申请人地址:610209四川双流350信箱

专利代理机构:成都信博专利代理有限责任公司

代理人:张一红%王庆理

国别省市代码:四川;51

权利要求：

权利要求书1、一种三维微结构的制作方法，其特征在于通过以下步骤完成：①通过计算机(5)控制生成实时掩模图形；②利用生成的实时掩模图形对感光材料(3)进行第一次曝光，获得n＝1次曝光的曝光量累积；③固定曝光台(4)，刷新实时掩模图形，对感光材料(3)进行第二次曝光，获得n＝2次曝光的曝光量累积；④重复②～③的步骤，使曝光次数足够大，获得n＝N次曝光的曝光量累积；⑤移动曝光台(4)，使感光材料(3)的另一曝光区域处于投影曝光镜头(2)之下，重复①～④的步骤；⑥显影，形成任意连续三维微结构。