化学放大型正光刻胶组合物

摘要：

一种化学放大型正光刻胶组合物得到的光刻胶膜与底物具有良好的附着性；并具有多种光刻胶性能特性如干蚀抗蚀性、灵敏度和分辨率；它含有树脂(X)，其本身不溶于或微溶于碱，但通过酸的作用溶于碱，它具有衍生于3－羟基－1－金刚烷基－(甲基)丙烯酸酯的聚合单元(a)，和衍生于β－(甲基)丙烯酰氧－γ－丁内酯的聚合单元(b)，其中内酯环可以任选被烷基取代；和产酸剂(Y)。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN01102197.7

申请日期：2001-01-31

公开/公告号：CN1312489

公开/公告日：2001-09-12

主分类号：G03F7/039

申请/专利权人:住友化学工业株式会社

发明/设计人:中西润次;高田佳幸

主申请人地址:日本大阪府

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李悦

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

权利要求书1．一种化学放大型正光刻胶组合物，含有树脂(X)，其本身不溶于或微溶于碱，但通过酸的作用溶于碱，它具有衍生于3-羟基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯的聚合单元(a)，和衍生于β-(甲基)丙烯酰氧-γ-丁内酯的聚合单元(b)，其中内酯环可以任选被烷基取代；和产酸剂(Y)。