去氨甲酰酶的立体结构及其用途

摘要：

本发明用X－光晶体照像术揭示了去氨甲酰酶的立体结构，并提供了去氨甲酰酶突变体，它对于工业应用更有用，该突变体是利用立体结构通过分子设计获得的，以改善去氨甲酰酶与其底物D－N－氨甲酰基－α－氨基酸的反应性。特别是，本发明涉及用X－光晶体照像术确定的去氨甲酰酶的立体结构；其与底物、产物等的复合物的立体结构模型；一种利用这些立体结构的分子设计方法；和用该方法获得的去氨甲酰酶突变体；以及设计和产生具有与去氨甲酰酶类似的结构的蛋白质突变体的方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN00813349.2

申请日期：2000-08-30

公开/公告号：CN1376202

公开/公告日：2002-10-23

主分类号：C12N15/60

申请/专利权人:钟渊化学工业株式会社

发明/设计人:中井孝尚;守川壮一;石井清人;难波弘宪;矢岛丽嘉;池中康裕;高桥里美

主申请人地址:日本大阪府大阪市

专利代理机构:上海专利商标事务所

代理人:徐迅

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

权利要求书1.一种去氨甲酰酶结晶，其特征在于，该结晶具有正交晶系中的空间群P21212和SEQ ID NO：1中列出的氨基酸序列，或正交晶系中的空间群P212121和SEQ IDNO：2中列出的氨基酸序列。