一种集成光学器件的生产方法

摘要：

提出一种在基片上制作集成光学器件(1)的方法。其中器件(1)包括各含有至少一个光学元件的第一和第二区。第一和第二区被相对无特征部分的第三区分隔开。第三区提供了第一和第二区之间的光学连通。所述方法使用了照相平版印刷(法)的步进器来限定基片上的光学元件的特征部分。可以将第一区的光学元件的特征部分限制在第一曝光区域和将第二区(3)的光学元件的特征部分限制在第二曝光区域。步进器在曝光区域之间移动使第一和第二曝光区域相接触，第一和第二区域之间的重叠区或接触线位于基片上相对无特征部分的第三区内。此方法可以用于形成波导光栅阵列。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN00808143.3

申请日期：2000-05-24

公开/公告号：CN1352763

公开/公告日：2002-06-05

主分类号：G03F7/20

申请/专利权人:布克哈姆技术公共有限公司

发明/设计人:S·W·罗伯茨

主申请人地址:英国牛津郡

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:林长安

国别省市代码:英国;GB

权利要求：

权利要求书1.一种在基片上制作集成光学器件的方法，所述器件包括各含有至少一个光学元件的第一和第二区，所述第一和第二区被相对无特征部分的第三区分隔开，所述第三区提供了所述第一和第二区之间的光学连通；所述方法使用了照相平版印刷(法)的步进器来限定所述基片上光学元件的特征部分，可以将所述第一区的光学元件的特征部分限制在第一曝光区域和将所述第二区的光学元件的特征部分限制在第二曝光区域；所述步进器在曝光区域之间移动使所述第一和第二曝光区域相接触，使所述第一和第二区域之间的重叠区或接触线位于所述基片上相对无特征部分的所述第三区内。