卤化银反射支持体印相介质

摘要：

本发明涉及多层照相材料，其中支持体之上有至少三层感光记录层、各感光记录层相应有至少一层非感光的形成染料的隔层；还可有含UV染料的隔层以及顶面保护层；每个隔层都基本上没有净化剂，卤化银颗粒含有大于90％的氯化银，卤化银颗粒互易律特性达到以下标准，即对于1微秒和0．4秒的分色曝光而言，每个彩色记录层在相对于产生最小密度以上0．04密度的曝光点处，于1．2或更小曝光量范围对数值之内，显影达到至少2．0密度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN00137532.6

申请日期：2000-12-27

公开/公告号：CN1301984

公开/公告日：2001-07-04

主分类号：G03C1/46

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:M·R·罗伯茨

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:王景朝%周慧敏

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1．包括反射支持体的多层照相元件，其中邻接于支持体的彩色记录层1包括至少一个感光层和非感光的形成染料的隔层；彩色记录层1之上的彩色记录层2包括至少一个感光记录层和至少两个非感光的形成染料的隔层；而彩色记录层2之上的彩色记录层3包括至少一个感光层和非感光的形成染料的隔层；还包括任选的含UV染料的隔层；以及顶面保护层；其中本发明多层结构的各彩色记录层经时间范围为20纳秒～500秒的一次或多次曝光和显影后产生具有如下性能的染料特性曲线：染料特性曲线的最大斜率值为2.0～5.0；分色曝光和显影后各彩色记录层的最大Status A反射密度≥1.0；显影后最低Status A反射密度≤0.300；在最小密度平台加0.04 Status A密度单位和最大密度平台减0.04 Status A密度单位之间的曝光量范围对数值不超过2.0。