化学放大型正光刻胶组合物

摘要：

一种化学放大型正光刻胶组合物提供了良好的灵敏度和分辨率，它含有树脂（Ｘ），其本身不溶于或微溶于碱，但通过酸的作用溶于碱，它具有来源于脂环不饱和羧酸酯的聚合单元（ａ），其中羧酯酯单元如式（Ⅰ）所示(见式),$其中Ｒ′为１—４个碳原子的烷基，Ｒ为可以被选自羟基和氧的基团任选取代的脂环烃残基，Ｒ²为１—４个碳原子的烷基，Ｒ和Ｒ²，与键合到Ｒ和Ｒ²的碳原子，形成环，键合成在其环内具有可聚合的碳－碳双键的脂环烃；和来源于马来酸酐的聚合单元（ｂ）；和产酸剂（Ｙ）。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN00133683.5

申请日期：2000-12-01

公开/公告号：CN1299079

公开/公告日：2001-06-13

主分类号：G03F7/039

申请/专利权人:住友化学工业株式会社

发明/设计人:上谷保则;金晟贤

主申请人地址:日本大阪府

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李悦

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1．一种化学放大型正光刻胶组合物，含有树脂(X)，其本身不溶于或微溶于碱，但通过酸的作用溶于碱，它具有来源于脂环不饱和羧酸酯的聚合单元(a)，其中如式(Ⅰ)所示的羧酸酯单元：