图像记录材料的防水保护罩面层

摘要：

本发明涉及一种用于成像产品的罩面层组合物，该组合物包括：基于所述罩面层干沉积物３０—９５％（重量）的疏水聚合物，所述疏水聚合物为结构１单体的均聚物或包含基于所述单体总重量至少３０％（重量）的共聚物和基于所述罩面层干沉积物５—７０％（重量）的明胶，式中：Ｒ和X₁、X₂、X₃、X₄和X₅与说明书中定义相同。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN00121673.2

申请日期：2000-07-17

公开/公告号：CN1281161

公开/公告日：2001-01-24

主分类号：G03C1/89

申请/专利权人:伊斯曼柯达公司

发明/设计人:H·L·姚;L·B·泰;J·S·王;T·陈

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:王其灏

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1．一种用于图像记录基材的罩面层组合物，包括：基于罩面层干沉积物(laydown)30—95％(重量)的平均粒径为0．01—0．5微米的疏水聚合物颗粒，所述疏水聚合物是结构1所述单体的均聚物，或者是包含基于单体总重量至少30％(重量)的结构1所述单体的共聚物和基于所述罩面层干沉积物5—70％(重量)的明胶：结构1式中：R为H、CH3、C2H5和C3H7；和X1、X2、X3、X4和X5为H、F、C1、Br、I、CN、CH3O、C2H5O、C3H7O、C4H9O、CH3、C2H5、C3H7、正—C4H9、仲—C4H9、叔—C4H9、CF3、C2F5、C3F7、异—C3F7、正—C4F9、仲—C4F9、叔—C4F9、CH3NH、(CH3)2N、正—C5H11、异—C4H9、正—C6H13、正—C7H15、正—C8H17、正—C9H19、正—C10H21或正—C12H25。