基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计

摘要：

提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作.由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位.CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置.该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准.

关键词：掩模移动曝光技术、接近式光刻机、对准系统、对准精度

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金

在线出版日期：2015-09-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：47-50