光学元件的磁流变精密抛光实验分析

摘要：

通过对光学工件进行较大范围的磁流变抛光实验,获得了加工后整个抛光平面粗糙度的分布规律和影响平面度的抛光工艺参数.该实验对于确立大尺寸光学元件抛光工艺提供了依据,并为后续装置研究和完善提供了新的思路.

关键词：磁流变抛光、工艺参数、实验分析、粗糙度

分类号：TH1;TG5

在线出版日期：2010-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：16-19