微晶玻璃研磨抛光超光滑表面粗糙度的工艺研究

摘要：

研磨抛光采用浸液式定偏心锡磨盘抛光方式,研究抛光液浓度、PH值、上下研磨盘转速、抛光时间等参数对微晶玻璃超光滑表面粗糙度的影响,粗糙度的测量采用NT1100干涉仪.实验结果表明:粗糙度受PH值影响比较大;试件在低浓度弱碱抛光液中,延长抛光时间可降低表面粗糙度值并获得高质量的表面,最终测得表面粗糙度为Ra=0.37 nm.

关键词：微晶玻璃、研磨抛光、粗糙度、工艺

所属期刊栏目：28

分类号：TQ171.6+84

资助基金：北京市自然科学基金3052012

在线出版日期：2008-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：126-128