能量过滤磁控溅射技术制备Te薄膜及其光学性能研究

摘要：

利用自主改进后的能量过滤磁控溅射(energy filtering magnetron sputtering,EFMS)技术制备Te薄膜,研究了沉积温度对薄膜结晶特性、表面形貌以及光学性能的影响.研究结果表明所制备的薄膜为纯Te膜.在100℃时制备出的薄膜结晶较好,表面颗粒较大且比较均匀,200℃时薄膜表面形貌发生改变,由颗粒状变为交错分布的棒状结构.200℃时制备的薄膜在红外波段的消光系数和折射率相对较小.室温制备的薄膜的平均透过率为9.1％;200℃制备的薄膜的平均透过率最大为35.4％.

关键词：能量过滤磁控溅射、Te薄膜、光学性质、椭圆偏振光谱仪

所属期刊栏目：52

分类号：O484.4+1(固体物理学)

资助基金：河南省重点科技攻关计划项目 152102210038

在线出版日期：2020-05-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：102-107