经皮穴位电刺激对颅脑围手术期脑氧及糖代谢的影响

摘要：

目的 观察经皮穴位电刺激(TAES)在颅脑手术围术期对脑组织氧及糖代谢的影响.方法 将神经外科择期手术患者50例随机分为治疗组和对照组(各25例),两组均麻醉诱导后持续吸入七氟醚和间断静脉注射舒芬太尼、维库溴铵维持麻醉,治疗组加用TAES干预,分别在麻醉诱导前(T0)、切皮前(T1)、术毕(T2)、拔管后10 min(T3)取颈内静脉球部血及桡动脉血进行血气分析,测定和计算各时相脑动静脉血氧含量差(Da-jvO2)、脑动静脉血糖含量差(Da-jvGlu)及脑动静脉乳酸含量差(Da-jvLac).结果 两组患者Da-jvO2在T1、T2、T3均低于T0(P＜0.05,P＜0.01),其中治疗组在T2、T3与对照组同期比较差异有统计学意义(P＜0.05,P＜0.01).Da-jvGlu治疗组在T2、T3明显低于T0(P＜0.05),而对照组在麻醉前后保持相对稳定,组间比较治疗组在T2、T3时小于对照组(P＜0.05或P＜0.01).Da-jvLac治疗组在T1、T2和T3均低于同期对照组(P＜0.01).结论 TAES在颅脑手术围术期应用有可能降低脑组织的氧、糖代谢.

关键词：经皮穴位电刺激、颅脑手术、脑、氧、糖、代谢

所属期刊栏目：28

分类号：R2(中国医学)

在线出版日期：2008-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：201-205