种植密度对高粱冠层结构及光辐射特征的影响

摘要：

本研究旨在探讨种植密度对高粱冠层结构及光辐射特征的影响.试验设4个密度处理分别为15.4万、19.2万、25.6万和38.5万株/hm2,以绥杂7为试验品种,采用随机区组设计,小垄双行种植.结果表明在25.6万株/hm2种植密度条件下,产量显著高于其他处理,此密度处理生育后期群体叶面积指数降幅较小,光合有效辐射值上升较大,消光系数较大,叶片分布极差小,冠层结构及光分布均较优,利于高粱叶片的光合生产及产量的增加.本研究认为25.6万株/hm2是优化高粱冠层结构,提高其产量的合理种植密度.

关键词：高粱、密度、冠层结构、光辐射特征、产量

分类号：S31;S79

资助基金：黑龙江省杂粮现代农业产业技术协同创新体系高粱栽培岗位

在线出版日期：2017-11-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：119-123