炭疽病胁迫下的茶树叶片高光谱特征分析

摘要：

试验以茶树不同炭疽病受害程度的叶片及健康叶片为材料，室内测定其光谱反射率。结果表明，炭疽病危害后，茶树叶片的光谱值随发病程度的增加表现出有规律的变化，740～1000 nm波段的光谱反射率随病情加重呈现下降趋势；而1370～2500 nm波段却表现出相反趋势。在742～974 nm和1374～2500 nm，炭疽病受害程度与光谱反射率呈极显著相关。对光谱一阶微分特征分析表明，在680～780 nm范围内处理间变幅最大，有2个波段的一阶微分值与受害程度表现出极显著相关性，分别为715～763 nm和776～778 nm波段。建立的炭疽病严重度诊断模型，均达到极显著水平，其中利用植被指数（Rg－Rr）／（Rg＋Rr）建立的模型精确度最高。

关键词：茶树、炭疽病、受害程度、高光谱、诊断模型

分类号：S431.9(病虫害及其防治)

资助基金：国家茶产业技术体系西部病虫害防控岗位专家基金CARS－23；重庆市公益性科研院所农发资金项目

在线出版日期：2014-12-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：13-17