磁头研抛工艺规律研究

摘要：

计算机硬盘其存储容量的发展要求不断降低磁头在硬盘表面的飞行高度,从而要求硬盘磁头的表面粗糙度越来越小.分析一种目前普遍应用于工业的技术:浮法抛光法,研究其研抛工作时工艺参数对磁头表面的影响情况,寻求一个何时的研抛参数和影响因素,以求达到快速加工,降低成本.

关键词：磁头、研抛工艺参数、表面粗糙度

所属期刊栏目：27

分类号：TG580.692(金属切削加工及机床)

资助基金：国家自然科学基金50390061

在线出版日期：2007-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：282-285