10.3969/j.issn.1674-5825.2022.03.008
Pd⁃Ni合金薄膜氢气传感器中隔离膜性能与机理研究
针对P d?Ni合金薄膜氢气传感器的响应特性与零点稳定性受氧气氛影响的问题,分别用离子束溅射技术和原子层沉积技术制备了100 nm P d?Ni合金薄膜氢气敏感电阻和10 nm Al2 O3/SiO2/Al2 O3复合隔离膜,并测试对比了有隔离膜和无隔离膜样品的氢敏响应特性和零点稳定性,分析了氧气氛影响氢敏特性与隔离膜阻氧透氢的机理.结果表明:复合隔离膜对灵敏度影响极小,起到了较好的透氢阻氧作用,大大改善了空气作为背景气体的氢敏响应特性和零点稳定性,但隔离膜对P d?Ni合金薄膜氢气传感器的响应时间和恢复时间有负面影响.
薄膜、氢气传感器、隔离膜、Pd-Ni合金、透氢、阻氧
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TP212.1(自动化技术及设备)
2022-07-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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