碳化硅商业化进程加速

摘要：

碳化硅SiC属于第三代化合物半导体,与硅基材料相比具有宽禁带、高临界击穿场强、高热导率等特征.在大部分厂商完成低缺陷密度单晶生长工艺及厚单晶生长工艺研发后,碳化硅衬底的单位面积价格会降低,凸显出经济性.碳化硅器件市场包括功率器件与射频器件,前者主要用于汽车、工业与能源领域,后者主要用于5G建设.业内预测,2022年全球SiC器件市场规模为43亿美元,随着碳化硅器件在电力、射频等领域的渗透率提升,预计到2026年市场规模将增长至89亿美元,对应年复合增长率为19.9％.

机标关键词：商业化进程、碳化硅

分类号：TN304.24;TQ163.4;F832.4

在线出版日期：2023-02-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：26-27