电子轰击型离子源中抑制H3+的几点思考
分析了在电子轰击型(EI)离子源中,磁场、进样量、阴极电流和阴极电压等4种主要仪器设备条件对产生H3+的影响,在实验中得到较好的验证,并得到H3+在4种条件下的基本影响趋势.本研究对使用低分辨率质谱计分析天然氢同位索时,EI离子源参数的调节和进样量的选取具有指导意义.
低分辨率质谱计、电子轰击型离子源、H3+、氢同位素
32
O657.63(分析化学)
2011-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
100-103
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低分辨率质谱计、电子轰击型离子源、H3+、氢同位素
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O657.63(分析化学)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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