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10.3969/j.issn.1004-2997.2004.z1.008

水基AlN流延膜有机添加剂排胶过程的热重-差示扫描热量-质谱研究

引用
@@ 由于AlN陶瓷具有高热导率、热膨胀系数与Si相匹配、低介电系数和高电阻率等优点,是新一代陶瓷基片的理想材料[1~3].在制备AlN流延膜过程中需加入一定数量的分散剂、粘结剂和塑性剂等各种有机物[4].然而,这些有机添加剂的存在会影响基片的热导率和介电性能[5,6],因此需要在烧结前完全除去这些有机物.

水基、流延膜、有机添加剂、排胶、热重、差示扫描、热量、质谱研究、Aluminum Nitride、有机物、高热导率、热膨胀系数、陶瓷基片、理想材料、介电性能、介电系数、高电阻率、粘结剂、塑性剂、膜过程

25

O657.63(分析化学)

中国科学院上海硅盐研究所无机材料分析测试中心主任基金ZRJJ200402

2004-12-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

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质谱学报

1004-2997

11-2979/TH

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2004,25(z1)

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