氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响

摘要：

为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜.运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对薄膜结构的影响;采用动态定压法分别测试了在氩气和在氪气中沉积的薄膜的吸氢性能,分析了溅射气氛和薄膜结构对吸氢性能的影响.结果表明,在同等气压下,用氩气溅射沉积的薄膜较致密,用氪气溅射沉积的薄膜表面分布有较多的团簇结构和裂纹结构,薄膜呈明显的柱状结构,且柱状组织间分布着大量的界面和间隙,为气体扩散提供了更多的路径;随着氩气和氪气气压增大,薄膜含有更多的裂纹和间隙结构,连续性柱状结构生长更明显,裂纹更深更宽,比表面积更大,有利于提高薄膜的吸氢性能.

关键词：Zr-Co-RE薄膜、直流磁控溅射、氪气、溅射气压、微观结构、吸氢性能

所属期刊栏目：30

分类号：TB43;TG174.444(工业通用技术与设备)

资助基金：甘肃省自然科学基金;甘肃省陇原青年创新创业人才项目

在线出版日期：2024-01-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：83-89