退火温度对Ta2O5薄膜光学和表面特性的影响

摘要：

针对退火温度影响Ta2O5 薄膜的光学和表面特性的问题,采用电子束蒸发技术在石英基底上制备了该薄膜,并将薄膜样品分别在 200℃、400℃和 600℃下进行退火.利用光谱仪测试了薄膜的透射率并反演计算得到薄膜的折射率和消光系数的变化规律,采用X射线衍射仪和原子力显微镜表征了薄膜的表面性能.研究表明,薄膜透射率曲线的峰值随退火温度升高而显著提升.随着退火温度升高,薄膜的折射率和消光系数均逐渐变大,表面粗糙度呈现下降的趋势,表面变得致密.退火前后薄膜均为非晶态.该研究为进一步提高Ta2O5 薄膜的性能提供了试验数据.

关键词：Ta2O5薄膜、退火温度、光学、表面

所属期刊栏目：30

分类号：O484.4+1(固体物理学)

资助基金：重点实验室基金HTKJ2021KL510003

在线出版日期：2024-01-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：78-82