多层高反膜的应力研究

摘要：

采用激光干涉仪对激光雷达用多层高反膜的应力变化进行了研究,讨论了离子源加速电压、离子源辐照角度、界面层与基底匹配以及后处理等工艺条件对多层薄膜面型变化的影响.试验结果表明,低的离子源功率下,氧化钛薄膜表现为张应力,随着离子源功率增加,逐渐转变为压应力.合理调整离子源辐照角度与界面层结构,可以降低应力,减小应力引起的面型变化量,改善位于工件盘中心与边缘的样品面型变化的不均匀性.在深入研究的基础上,综合耐候性的要求优化了薄膜生产沉积工艺,批量生产出了满足产品要求的应用于激光雷达的多层高反射薄膜器件.

关键词：应力、PV、面型变化、激光雷达、多层薄膜

所属期刊栏目：29

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2023-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：146-152