气体流动方式对MPCVD金刚石薄膜均匀性的影响

摘要：

在实验室自主研制的10 kW微波等离子体化学气相沉积装置上,通过改变气体的进出方式,探讨了气体流动方式对金刚石膜均匀性和质量的影响.结果表明:随着Si基片表面气体分子数增多,等离子体中的H原子和CH活性基团强度增强,扩散到基片表面中心的原子H和含碳活性基团增多,基片中心区域的金刚石膜生长速率略微有所提升,由原来的2.5μm/h提高到2.8μm/h,沉积得到的金刚石膜质量和均匀性均得到改善.

关键词：微波等离子体、气体流场、等离子体发射光谱、金刚石薄膜

所属期刊栏目：26

分类号：TB383;O484(工程材料学)

资助基金：湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目;武汉工程大学教育创新基金

在线出版日期：2020-04-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：108-113