高气压对MPCVD沉积金刚石薄膜的影响

摘要：

本研究在10 kW微波等离子体CVD装置中进行,以仿真模拟为辅助理论依据研究了在一定的高功率环境下,气压对金刚石薄膜沉积质量的影响.利用SEM表征对金刚石表面形貌变化进行分析,利用Raman表征结果分析了不同气压环境下金刚石薄膜的结晶质量及半高宽的变化情况.研究结果表明,气压对电子密度影响很大,进而影响金刚石沉积薄膜的表面形貌.在5 kW微波功率下,17 kPa为最优沉积气压,沉积形貌相对最好,半高宽最小.当气压低于17 kPa时,结晶质量随气压增大而增大;当超过17 kPa时,结晶质量不增反降.

关键词：微波等离子体、化学气相沉积、金刚石薄膜

所属期刊栏目：24

分类号：TB383;O484(工程材料学)

资助基金：湖北省教育厅科学技术研究优秀中青年人才项目;教育创新基金

在线出版日期：2021-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：54-59