沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响研究

摘要：

硅碳氧薄膜拥有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高、热导率高等优异性能，是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜。采用射频磁控溅射技术在K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜，并研究了沉积参数对硅碳氧薄膜光学性能的影响。结果表明，所制备的硅碳氧薄膜呈现出优异的光学透射性能，工作压力的增高和溅射功率的降低都会使薄膜的透射光谱发生蓝移现象，而基片温度的降低、工作压力的升高及溅射功率的减小都能使薄膜的光学透射性能更好。改变沉积参数，可以获得不同的薄膜沉积速率。折射率在1．80～2．20之间变化。

关键词：硅碳氧薄膜、磁控溅射、沉积参数、光学性能

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：表面工程技术重点实验室基金914C540107090 C54；台州学院校立学生科研项目13XS18；台州学院校立培育基金项目；浙江省工量刃具检测与深加工技术研究重点实验室开放基金

在线出版日期：2014-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：163-166