磁镜场在直接耦合式微波等离子体CVD金刚石膜装置中的应用

摘要：

在自行设计的直接耦合石英管式微波等离子体化学气相沉积(Chernjcal Vapor Deposition,CVD)金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场来约束等离子体,使等离子体球成为"碟盘"状,提高了等离子体球的密度,在基本参数为反应压力2.5 kPa、基片温度450℃、Ar、CH4、H2气体流量分别为40 sccm、4 sccm、60 sccm,则沉积面积可由φ30 mm增长到φ50 mm,沉积速率由3.3μm/h增长到3.8 μm/h,反射电流由15μA减小到5 μA.从而大大减少了薄膜在石英管壁和观察窗上的沉积,更好地利用微波能量,有效利用电离的活性基团沉积出高质量的金刚石薄膜.

关键词：微波等离子体、化学气相沉积、金刚石膜、磁镜场

所属期刊栏目：15

分类号：O53(等离子体物理学)

资助基金：广州市属高校科技计划项目62003

在线出版日期：2009-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：108-111