10.3969/j.issn.1006-7086.2008.03.007
圆柱谐振腔式MPCVD装置中氢、氩微波等离子体分布规律的数值模拟
在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体沉积室中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态.在模拟中,针对纳米金刚石的生长环境,就纯氩气反应气体中,不同的输人功率、不同气体压力条件下,沉积室中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟,将其与一般氢气气氛下的相应模拟结果相对比.模拟所获得的结果,对微波等离子体方法沉积金刚石膜的操作环境的优化,有着一定的指导意义.
金刚石膜、微波等离子体、FDTD方法、数值模拟
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O53(等离子体物理学)
国家自然科学基金10675017
2008-12-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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157-163