化学气相沉积镀膜机控制研究

摘要：

以RF-500型镀膜机为例介绍了化学气相沉积(CVD)镀膜机的结构以及工作原理;为克服RF-500型CVD镀膜机传统的电气控制缺点,开发了-套基于工业控制计算机的控制系统.描述了该镀膜机控制系统的硬件结构和软件功能.对基片温度、气体流量及开关量的控制效果进行了大量的实验研究.结果表明:基片温度控制精度达到±1℃、工作(反应)气体的流量控制精度达到10 mL/min,可以进行精确的开关量控制.应用表明:该控制系统可以实时监控RF-500型CVD镀膜机的运行.

关键词：化学气相沉积、镀膜机、温度、气体流量、控制、精度

所属期刊栏目：14

分类号：TH873.7

在线出版日期：2008-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：109-114