10.3969/j.issn.1006-7086.2008.01.008
电致变色热控器件ITO膜层的制备与研究
针对电致变色热控器件的透明导电层开展了ITO薄膜的制备工艺研究,对薄膜制备过程中的几个主要影响因素(溅射压力、氩,氧比例、退火温度等)进行了分析,并测试了薄膜性能,制备的ITO薄膜电阻在100~120 Ω/cm左右,在太阳光谱范围的吸收率小于5%,可以满足电致变色器件对透明导电层的要求.
电致变色器件、ITO薄膜、制备工艺
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O484.4+1(固体物理学)
表面工程技术国家级重点实验室基金9140C5403010704
2008-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
32-36,40