10.3969/j.issn.1006-7086.2008.01.004
快速退火对溅射沉积Al膜微结构及应力的影响
用直流溅射法在聚酰亚胺(PI)基底上制备了300nm厚的A1膜,并进行快速退火(RTA)处理.用X射线衍射、扫描电子显微镜和曲率法对A1薄膜的微结构及应力随退火温度和时间的变化进行了研究.结果表明,采用快速退火可以使其压应力松弛,甚至转变成张应力.
快速退火、Al、微结构、应力
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O484.2(固体物理学)
表面工程技术国家级重点实验室基金BM0501
2008-07-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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