10.3969/j.issn.1006-7086.2007.01.002
电子束在微/纳制造中的应用进展
微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.介绍了近年来电子束光刻技术的研究进展及其在微/纳器件研制中的重要作用.
电子束光刻技术、原理、进展
13
TN305.7(半导体技术)
2007-05-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共11页
6-15,24
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10.3969/j.issn.1006-7086.2007.01.002
电子束光刻技术、原理、进展
13
TN305.7(半导体技术)
2007-05-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共11页
6-15,24
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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