10.3969/j.issn.1006-7086.2003.04.002
反应磁控溅射工艺中的滞后效应研究
研究了反应磁控溅射的动力学过程.理论分析与试验结果表明:反应气体流量随其压力的变化呈滞后效应,最佳镀膜工艺位于滞后区域.给出了金属靶阴极表面溅射清洗效果的伏安特性评价法,为克服"靶中毒"提供了有效的技术途径.
反应磁控溅射、动力学过程、滞后效应
9
TK513.2;TB43(特殊热能及其机械)
2004-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
191-194
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10.3969/j.issn.1006-7086.2003.04.002
反应磁控溅射、动力学过程、滞后效应
9
TK513.2;TB43(特殊热能及其机械)
2004-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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