磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜的XPS和AFM研究

摘要：

研究了磁控溅射陶瓷靶制备的氧化铟锡薄膜的微观结构和光电性能;给出了它的XPS、AFM分光光度计测试结果.结果表明:氧化铟锡膜内部Sn以SnO2相存在,In以In2O3相存在,含量分别在5.8%和85.0%左右;薄膜表面十分致密,呈多晶球状微粒均匀分布,平均粒径为50 nm;可见波段光透过率全部超过80%,近红外反射率也较高,在2 500 nm处达到70%,电阻率为2.7×10-4Ω·cm,禁带宽度Eg≥3.35 eV.

关键词：磁控溅射、陶瓷靶、氧化铟锡、XPS、AFM

所属期刊栏目：9

分类号：TN305;TB43(半导体技术)

在线出版日期：2004-09-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：98-101