SiO2热控涂层的制备

摘要：

用离子束溅射工艺在石英、LY12和卫星蒙皮材料上制备了不同厚度和发射率的SiO2薄膜,研究了厚度对薄膜光学、热学性能的影响规律.用直流磁控溅射工艺制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了厚度对薄膜光学、电学性能的影响规律.利用前两部分研究成果在LY12和卫星蒙皮材料上制备成功了发射率可达0.45、光谱反射率大于0.7、同时电性能满足空间抗静电要求的复合热控薄膜.

关键词：SiO2、氧化铟锡薄膜、热控薄膜

所属期刊栏目：9

分类号：O484;TN305.92(固体物理学)

在线出版日期：2004-09-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：93-97,101